반도체 공장의 질소 주요 사용

질소는 반도체 공장에서 매우 높은 지위를 가지고 있으며 가장 넓은 커버리지 프로세스를 가진 가장 많은 양의 가스라고 할 수 있습니다. 그것은 공장의 피와 같습니다. 거의 모든 생산 링크는 그것과 분리 할 수 없습니다. 다음은 주요 용도에 대한 명확한 설명입니다.

산화 방지를위한 보호 가스의 첫 번째 사용

반도체 제조 공정에서, 많은 재료들이 특히 산소를 두려워한다. 예를 들어, 실리콘 웨이퍼가 고온에서 산소에 노출되면 표면에 산화층이 생성되어 칩의 성능이 직접적으로 파괴됩니다.

질소는 화학적으로 매우 안정적이며 어떤 것과도 거의 반응하지 않습니다. 따라서 산소로부터 분리해야하는 링크에서 공장은 산소와 수분을 차단하기 위해 질소를 계속 흐르게하여 실리콘 웨이퍼 및 기타 재료에 깨끗하고 안전한 환경을 조성합니다.

제조 단계 사이의 대기 시간이든 고온 어닐링이든 질소는 조용히 보호 우산으로서 작용합니다.

두 번째 목적은 먼지를 제거하고 청소하는 것입니다.

반도체 공장에는 많은 수의 장비와 파이프 라인이 있습니다. 프로세스가 전환되거나 프로세스가 완료 될 때마다 이전 라운드의 가스, 반응 부산물 및 다양한 불순물이 장비 내부에 남아 있습니다. 청소하지 않으면 다음 생산 라운드가 오염됩니다.

이때 장비와 파이프 라인은 고순도 질소로 퍼징되고 나머지 모든 먼지는 씻겨집니다. 동시에, 질소는 또한 웨이퍼의 표면 상의 잔류 불순물을 세정하는데 사용될 수 있다. 예를 들어, 산 및 알칼리 처리 후, 웨이퍼는 질소를 날려 깨끗하게 할 것이다.

이 퍼징 작업은 각 프로세스 전환 중에 수행되며 제품 품질 일관성을 보장하는 핵심 단계입니다.

다른 가스가 심부름을 돕기위한 캐리어 가스의 세 번째 사용

화학 증착과 같은 박막 증착 공정에서, 일부 특수 원료 가스를 반응 챔버로 보낼 필요가 있다. 질소는 트럭과 마찬가지로 여기에서 캐리어 가스 역할을하여 원료 가스를 필요한 곳으로 균등하게 운반합니다.

질소 자체는 원료와 반응하지 않기 때문에 특히 원료 가스의 균일 한 분배를 보장 할 수있는 캐리어 가스로 사용하는 것이 안전하며 증착 된 필름의 품질이 더 좋습니다.

또한, 일부 공정에서 질소는 활성 가스의 농도를 감소시켜 파이프 라인에서 액체로 응축되어 파이프 라인을 차단하는 것을 방지하기 위해 희석 가스로도 사용될 수 있습니다.

긍정적 인 압력을 유지하기 위해 깨끗한 환경을 조성하는 네 번째 사용

전체 반도체 공장의 깨끗한 작업장은 외부보다 약간 높은 기압을 유지해야하므로 외부의 더러운 공기가 들어갈 수 없습니다. 그리고이 양의 압력을 유지하는 것은 질소입니다.

공장은 청정실을 고순도 질소로 계속 채우므로 실내 압력이 실외보다 약간 높습니다. 동시에, 리소그래피 기계 및 에칭 기계와 같은 정밀 장비의 내부에서 질소는 또한 먼지 입자와 유해한 가스를 외부에서 분리하여 매우 깨끗한 미세 환경을 유지하는 데 사용됩니다.

포장 및 테스트 링크 보호의 다섯 번째 목적

칩이 완성 된 후에는 포장해야합니다. 포장 중에 산소와 습기에 노출되면 장치가 쉽게 부식되고 수명이 크게 단축됩니다. 질소는 외부 세계에서 포장 영역에 도입되어 칩이 안전하게 패키지를 완성 할 수 있습니다.

테스트 과정에서 질소를 사용하여 칩 환경의 실제 사용을 시뮬레이션하여 엔지니어가 칩의 성능을 정확하게 평가할 수 있도록 도와줍니다.

산화를 방지하는 여섯 번째 사용 용접 링크

리플로우 납땜 및 웨이브 납땜의 이러한 용접 공정에서 땜납은 고온에서 쉽게 산화되고 산화 후 용접 품질이 저하되며 가상 납땜 및 브리징과 같은 문제가 쉽게 발생합니다.

질소는 용접 영역에서 산소를 멀리 떨어뜨릴 수 있고, 솔더를 깨끗하게 유지하고, 더 나은 유동성을 가지며, 더 높은 품질과 더 적은 결함을 가질 수 있습니다.

질소 공급 역할에 있는 물 윤활 공기 압축기

질소의 사용을 말하면서 질소가 어떻게 나오는지 이야기 해 봅시다. 공장에서 질소 생산 설비는 일반적으로 공기와 질소를 분리하는 데 사용되며, 이 공정은 원료로 압축 공기를 필요로합니다.

이때 공기 압축기에 물을 윤활하여 압축 공기를 공급하면 큰 이점이 있습니다. 물 윤활 공기 압축기는 윤활을 위해 오일 대신 물을 사용하므로 생성되는 압축 공기는 완전히 오일이 없습니다. 이 깨끗한 압축 공기를 사용하여 질소를 생성하면 생성 된 질소의 순도가 표준에 도달하기가 더 쉽고 뒤에 여과 부담이 훨씬 적습니다.

또한, 물 윤활 공기 압축기는 오일 교환이 필요하지 않으므로 유지하기가 더 쉽습니다. 물은 기계에서 재활용됩니다. 시간이 지남에 따라 더러워지면 교체하고 수로를 청소하십시오. 장기 연속 가스 공급이 필요하고 가스 품질 요구 사항이 매우 높은 반도체 공장의 경우, 물 윤활 공기 압축기는 질소 시스템을 사용하는 매우 실용적인 선택입니다.

요약하려면

질소는 반도체 공장에서 6 가지 주요 작업을 수행합니다. 보호 가스가 재료의 산화를 방지 할 때, 정화 가스가 장비 및 파이프 라인을 청소할 때, 캐리어 가스가 다른 가스 수송을 도울 때, 주변 가스가 깨끗한 양압을 유지할 때, 보호 우산이 포장되고 테스트 될 때, 그리고 용접 할 때, 땜납은 산화되는 것을 방지합니다.

물 윤활 공기 압축기는 생성 된 공기가 오일을 포함하지 않기 때문에 최종 질소 청소기를 만들 수 있으며 질소 시스템에 가스를 공급하는 데 사용될 때 더 신뢰할 수 있습니다. 이는 반도체 공장의 순도에 대한 엄격한 요구 사항과 일치합니다. 가스.