半導体工場の圧縮空気に対する清浄度要求

半導体工場は圧縮空気の清浄度に対する要求が極めて高く、主にチップ製造、パッケージテストなどのプロセスが微小汚染物に対するゼロ許容特性に由来している。 具体的な要求は次の通りである

1.コア清浄度の要求

• 粒子状物質の制御: 圧縮空気中では、ミクロンオーダー (さらにサブミクロンオーダー) の粒子状物質の含有量を厳しく制限し、チップ表面に塵埃が付着して回路が短絡したり、性能欠陥が発生したりしないようにする必要がある。
• オイル汚染なし: 半導体プロセスは油分に敏感で、従来の含油エアコンプレッサはコーティングの脱落、設備の詰まりなどの問題を招きやすいため、圧縮空気に全く油がないことが要求されている。
• 低水分含有量: 空気中の水分は材料の酸化、プロセス精度の低下を引き起こす可能性があり、乾燥装置で露点を極めて低いレベルに抑える必要がある。

2.グランクリン圧縮機の清浄度保障案

• オイルフリー圧縮技術: 従来の潤滑油の代わりに動的な水膜潤滑を採用し、源から油汚れが圧縮空気に混入しないようにし、出力空気が完全に無油であることを確保する。
• 精密ろ過システム: 多段階ろ過装置 (例えば、初級ろ過、中級ろ過、最終精密ろ過) をセットして、ミクロン級の粒子状物質を効果的に遮断し、空気清浄度が半導体プロセスの要求に達することを保障する。
• 安定水潤滑設計: 単軸と星輪片の精密な噛み合い構造は、ステンレスの材質と動的水膜を結合して、運転中に金属の摩耗屑が発生せず、汚染リスクをさらに低減する。

3.グランクリン空圧機の適合優勢

• 源クリーン: 水潤滑技術は油性媒体を必要とせず、従来のコンプレッサーが油路の劣化、漏れによる汚染リスクを避ける。
• 低メンテナンス特性: コア部品はステンレスと耐食性材料を採用し、長期運転でも効率的な濾過と安定性能を維持し、設備の摩耗による二次汚染を減らすことができる。
• 柔軟な乾燥配置: 冷凍式または吸着式乾燥機をセットして、空気露点を正確に制御して、半導体工場の水分に対する厳しい要求に適合する。

以上のように、半導体工場の圧縮空気に対する清浄度需要は無油、微小粒子、低水分などに集中しているグランクリン水潤滑シングルスクリューエアコンプレッサは、オイルレス圧縮、精密ろ過、安定した水潤滑設計を通じて、この高い基準を効果的に満たすことができ、半導体製造に信頼できるガス源保障を提供する。